HVS高真空存储柜
高真空存储柜
PZXT系列高真空存储柜主要用于半导体器件工艺生产过程中存放成品、半成品、原材料及器具，是替代氮气存储柜的高端设备。
产品特点：
1、设备内含氧量、含水量低，极大的提升了产品良率；
2、设备内颗粒少，可以减少对产品的影响；
3、使用灵活方便，开启/关闭某一个或几个腔体，对整体没有影响。
设备型号
PZXT0602-N
PZXT1100-N
PZXT0212-N
外形尺寸（L×W×H）(mm)
1400×1800×1850
1500×2000×1850
1200×1800×1850
洁净度
Clss100
极限真空度（pa）
1×10-5
工作真空度（pa）
8×10-3
漏率(Pa·m3/s)
2×10-9
单个腔体尺寸（L×W×H）(mm)
300×300×350（略称DabbreviationD）
300×300×250（略称sabbreviationS）腔体数量（D/S）
6/2
11/0
2/12
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